Nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films deposited by radio-frequency magnetron sputtering

Martínek, Tomáš; Kudělka, Josef; Navrátil, Milan; Křesálek, Vojtěch; Fejfar, Antonín; Hývl, Matěj; Sobota, Jaroslav

Název:	Nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films deposited by radio-frequency magnetron sputtering
Autor:	Martínek, Tomáš; Kudělka, Josef; Navrátil, Milan; Křesálek, Vojtěch; Fejfar, Antonín; Hývl, Matěj; Sobota, Jaroslav
Typ dokumentu:	Článek ve sborníku (English)
Zdrojový dok.:	IEEE-NANO 2015 - 15th International Conference on Nanotechnology. 2015, p. 510-513
ISBN:	978-1-4673-8156-7
DOI:	https://doi.org/10.1109/NANO.2015.7388651
Abstrakt:	In this article, atomic force microscopy was used for nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films which were deposited on silicon substrate. Radio-frequency magnetron sputtering was used for tungsten deposition on the surface. © 2015 IEEE.
Plný text:	http://ieeexplore.ieee.org/document/7388651/
Zobrazit celý záznam

Soubory tohoto záznamu

Název: Fulltext_1006415.pdf

Velikost: 3.092Mb

Formát: PDF

Popis: fulltext

Citace ČSN ISO 690:2011

Citace článku v konferenčním sborníku:
MARTÍNEK, Tomáš, Josef KUDĚLKA, Milan NAVRÁTIL, Vojtěch KŘESÁLEK, Antonín FEJFAR, Matěj HÝVL a Jaroslav SOBOTA. Nanoscale characterization of ultra-thin tungsten films deposited by radio-frequency magnetron sputtering. In: IEEE-NANO 2015 - 15th International Conference on Nanotechnology [online]. Rome: Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2015, s. 510-513. [cit. 2024-04-24]. Dostupné z: http://ieeexplore.ieee.org/document/7388651/.

Tyto citace vytvořil software a mohou obsahovat chyby. Pro ověření přesnosti si nastudujte příslušnou citační normu nebo příručku.