Publikace UTB
Repozitář publikační činnosti UTB

Conjugated silicon based polymer resists for nanotechnologies: EB and UV meditated degradation processes in polysilanes

Repozitář DSpace/Manakin


Find Full text Export to RefWorks
   

 

Soubory tohoto záznamu

Citace ČSN ISO 690:2011

Citace článku v časopise:
SCHAUER, František, Petr SCHAUER, Ivo KUŘITKA a Hua BAO. Conjugated silicon based polymer resists for nanotechnologies: EB and UV meditated degradation processes in polysilanes. Materials Transactions [online]. 2010, vol. 51, iss. 2, s. 197-201. [cit. 2023-02-02]. ISSN 1345-9678. Dostupné z: http://www.jstage.jst.go.jp/article/matertrans/51/2/51_197/_article.

Tyto citace vytvořil software a mohou obsahovat chyby. Pro ověření přesnosti si nastudujte příslušnou citační normu nebo příručku.

Související články