TBU Publications
Repository of TBU Publications

Srovnávající studie fotodegradace a metastabilita v polysilylenech připravených z roztoku a v plasmatu

DSpace Repository

Show simple item record


dc.title Srovnávající studie fotodegradace a metastabilita v polysilylenech připravených z roztoku a v plasmatu cs
dc.title Comparative study of photodegradation and metastability in solution-processed and plasmatic polysilylenes en
dc.contributor.author Schauer, František
dc.contributor.author Dokoupil, Norbert
dc.contributor.author Horváth, Pavel
dc.contributor.author Kuřitka, Ivo
dc.contributor.author Nešpůrek, Stanislav
dc.contributor.author Pospíšil, Jan
dc.relation.ispartof Macromolecular Symposia
dc.identifier.issn 1022-1360 Scopus Sources, Sherpa/RoMEO, JCR
dc.date.issued 2004-04
utb.relation.volume 212
dc.citation.spage 563
dc.citation.epage 569
dc.event.title 9th International Conference on Electrical and Related Properties of Organic Solids
dc.event.location Prague
utb.event.state-en Czech Republic
utb.event.state-cs Česká republika
dc.type article
dc.type conferenceObject
dc.language.iso en
dc.publisher Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. en
dc.identifier.doi 10.1002/masy.200450873
dc.relation.uri http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/masy.200450873/abstract
dc.subject fotodegradace cs
dc.subject fotoluminiscence cs
dc.subject plasma cs
dc.subject polymerace cs
dc.subject polysilyleny cs
dc.subject metastability en
dc.subject photodegradation en
dc.subject photoluminesecence en
dc.subject plasma en
dc.subject polymerization en
dc.subject polysilylenes en
dc.description.abstract Tato studie se zabývá fotodegradací a metastabilitou polysilanů. Jsou porovnány fyzikální vlastnosti chemicky připraveného polyfenylmethylsilanu a polysilanů připravených v radiofrekvenčních a mikrovlnných výbojích. Zatímco poloha a šířka fotoluminiscenčního pásu daného excitací na hlavním řetězci je pro oba materiály stejná, jeho intenzita silně závisí na způsobu přípravy a mění se významně v průběhu fotodegradace. Rozdíl rychlostí fotodegradace je vysvětlen pomocí různé náchylnosti materiálů ke tvorbě silylových radikálů a jejich rekombinaci způsobené rigiditou řetězců i bočních skupin. cs
dc.description.abstract This study deals with photodegradation and metastability of polysilylenes. Physical properties of chemically prepared poly [methyl(phenyl)silylene] and polysilylenes prepared in radio-frequency and microwave discharges are compared. The position and width of the photoluminescence band due to the main chain excitations for both materials preserve but its intensity strongly depends on the preparation conditions and changes considerably during the photodegradation. The difference in photodegradation rate of both materials is explained by their different susceptibility to silyl radical formation and reverse recombination due to the chain and side groups rigidity. en
utb.faculty Faculty of Technology
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10563/1001990
utb.identifier.rivid RIV/70883521:28110/04:63502360
utb.identifier.obdid 12052479
utb.identifier.scopus 2-s2.0-4644356892
utb.identifier.wok 000222586600074
utb.source d-wok
dc.date.accessioned 2011-08-09T07:34:24Z
dc.date.available 2011-08-09T07:34:24Z
utb.contributor.internalauthor Schauer, František
Find Full text

Files in this item

Show simple item record