Srovnávající studie fotodegradace a metastabilita v polysilylenech připravených z roztoku a v plasmatu

Abstract

Tato studie se zabývá fotodegradací a metastabilitou polysilanů. Jsou porovnány fyzikální vlastnosti chemicky připraveného polyfenylmethylsilanu a polysilanů připravených v radiofrekvenčních a mikrovlnných výbojích. Zatímco poloha a šířka fotoluminiscenčního pásu daného excitací na hlavním řetězci je pro oba materiály stejná, jeho intenzita silně závisí na způsobu přípravy a mění se významně v průběhu fotodegradace. Rozdíl rychlostí fotodegradace je vysvětlen pomocí různé náchylnosti materiálů ke tvorbě silylových radikálů a jejich rekombinaci způsobené rigiditou řetězců i bočních skupin.

This study deals with photodegradation and metastability of polysilylenes. Physical properties of chemically prepared poly [methyl(phenyl)silylene] and polysilylenes prepared in radio-frequency and microwave discharges are compared. The position and width of the photoluminescence band due to the main chain excitations for both materials preserve but its intensity strongly depends on the preparation conditions and changes considerably during the photodegradation. The difference in photodegradation rate of both materials is explained by their different susceptibility to silyl radical formation and reverse recombination due to the chain and side groups rigidity.