Publikace UTB
Repozitář publikační činnosti UTB

Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces

Repozitář DSpace/Manakin


Find Full text Export to RefWorks
   


Soubory tohoto záznamu

Citace ČSN ISO 690:2011

Citace článku v časopise:
LEHOCKÝ, Marián, Pavel SŤAHEL, Marek KOUTNÝ, Jan ČECH, Jakub INSTITORIS a Aleš MRÁČEK. Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces. Journal of Materials Processing Technology [online]. 2009, vol. 209, iss. 6, s. 2871-2875. [cit. 2017-08-20]. ISSN 0924-0136. Dostupné z: http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0924013608005487.

Tyto citace vytvořil software a mohou obsahovat chyby. Pro ověření přesnosti si nastudujte příslušnou citační normu nebo příručku.

Související články

Odpovídající dokument nebyl nalezen