Publikace UTB
Repozitář publikační činnosti UTB

Conjugated Silicon Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Meditated Degradation Processes in Polysilanes

Repozitář DSpace/Manakin


Find Full text Export to RefWorks
   


Soubory tohoto záznamu

Citace ČSN ISO 690:2011

Citace článku v časopise:
SCHAUER, František, Petr SCHAUER, Ivo KUŘITKA a Hua BAO. Conjugated Silicon Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Meditated Degradation Processes in Polysilanes. Materials Transactions [online]. 2010, vol. 51, iss. 2, s. 197-201. [cit. 2017-11-22]. ISSN 1345-9678. Dostupné z: http://www.jstage.jst.go.jp/article/matertrans/51/2/51_197/_article.

Tyto citace vytvořil software a mohou obsahovat chyby. Pro ověření přesnosti si nastudujte příslušnou citační normu nebo příručku.

Související články